SAN JOSÉ, California - NVIDIA (NASDAQ:NVDA) acaba de comunicar que se ha asociado con Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC) y Synopsys para poner en producción su plataforma de litografía computacional, NVIDIA cuLitho. El objetivo de esta colaboración es agilizar el proceso de fabricación de chips semiconductores avanzados.
La integración de cuLitho de NVIDIA con los sistemas de TSMC y Synopsys mejorará la fabricación de chips y dará soporte a las próximas GPU de arquitectura Blackwell de NVIDIA. Jensen Huang, Consejero delegado de NVIDIA, ha señalado que esta colaboración aprovecha la aceleración computacional y la inteligencia artificial generativa para avanzar en el escalado de los semiconductores.
La litografía computacional, un elemento crítico en la fabricación de chips, ha sido tradicionalmente una tarea intensiva de la CPU, que requería vastos recursos computacionales. NVIDIA afirma que el uso de su plataforma acelerada en la GPU puede reducir considerablemente el tiempo y los recursos necesarios para este proceso. Por ejemplo, según la compañía, 350 sistemas NVIDIA H100 podrían sustituir hasta 40.000 CPU.
TSMC ha comunicado mejoras sustanciales en el rendimiento, el aumento de la producción y la reducción de las necesidades de energía gracias a la integración del cálculo acelerado en la GPU en su flujo de trabajo. El Dr. C.C. Wei, Consejero delegado de TSMC, ha manifestado que el aprovechamiento de NVIDIA cuLitho ha sido decisivo para impulsar el escalado de los semiconductores.
Synopsys también ha obtenido beneficios de la colaboración, ya que sus productos de software de síntesis de máscaras Proteus se ejecutan en la plataforma de NVIDIA para acelerar las cargas de trabajo computacionales. Sassine Ghazi, Presidente y Consejero delegado de Synopsys, ha destacado la importancia de esta colaboración para permitir el escalado a nivel de angstrom y reducir los plazos de entrega.
NVIDIA ha introducido nuevos algoritmos de IA generativa que mejoran aún más la plataforma cuLitho, ofreciendo una aceleración adicional del doble de los procesos acelerados. Este flujo de trabajo basado en IA permite crear máscaras inversas casi perfectas, lo que puede agilizar el proceso de corrección óptica de proximidad (OPC).
La integración de cuLitho en la producción es un paso más para hacer frente a la creciente complejidad y a las exigencias computacionales de la fabricación de semiconductores avanzados. Se espera que esta asociación facilite el desarrollo de nuevas tecnologías para chips a escala de 2nm y superior.
Este anuncio se basa en un comunicado de prensa de NVIDIA.
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