Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. China se dedica a la investigación y desarrollo, fabricación y venta de equipos semiconductores de gama alta y equipos pan-semiconductores en China. Ofrece equipos de grabado por plasma capacitivo que se utilizan en el grabado de materiales dieléctricos como óxido de silicio, nitruro de silicio y capas de película de bajo coeficiente dieléctrico en la fabricación de circuitos integrados; equipos de grabado por plasma inductivo y equipos de grabado profundo de silicio, que se utilizan en el grabado de silicio monocristalino, silicio policristalino y diversos materiales dieléctricos en la fabricación de circuitos integrados; y equipos MOCVD que se utilizan en el grabado de agujeros pasantes y zanjas, como sensores de imagen CMOS, chips MEMS, chips 2.5D, chips 3D, etc.5D, chips 3D, etc. La empresa también suministra accesorios y servicios a las empresas de fabricación de circuitos integrados, obleas epitaxiales LED, envases avanzados, MEMS y otros productos semiconductores. Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. China se fundó en 2004 y tiene su sede en Shanghai, República Popular China.